Achtes Kolloquium über Metallkundliche Analyse Mit Besonderer Berücksichtigung der Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Mikroanalyse Wien, 27. Bis 29. Oktober 1976 |
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| Editorial Coordinator:
| Zacherl, M. K. |
| Series title: | Mikrochimica Acta Supplementa Ser. |
| ISBN: | 978-3-211-81433-8 |
| Publication Date: | Jun 1977 |
| Publisher: | Springer
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| Imprint: | Springer Vienna, AUT |
| Book Format: | Paperback |
| List Price: | USD $59.99 |
Book Description:
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Die chemische Zusammensetzung der Oberfläche von Materia lien, die aus zwei oder mehr Komponenten bestehen, wird sehr oft durch den Einfluß der Primärelektronen sowie durch das Zerstäu ben, wie es zur Reinigung der Probenoberfläche, bzw. zur Aufnahme von Tiefenprofilen verwendet wird, drastisch verändert. In einer quantitativen Beschreibung der Oberflächenzusammensetzung müs sen daher die verschiedenen Effekte, die durch die primären Elek tronen oder Ionen hervorgerufen werden,...
More DescriptionDie chemische Zusammensetzung der Oberfläche von Materia lien, die aus zwei oder mehr Komponenten bestehen, wird sehr oft durch den Einfluß der Primärelektronen sowie durch das Zerstäu ben, wie es zur Reinigung der Probenoberfläche, bzw. zur Aufnahme von Tiefenprofilen verwendet wird, drastisch verändert. In einer quantitativen Beschreibung der Oberflächenzusammensetzung müs sen daher die verschiedenen Effekte, die durch die primären Elek tronen oder Ionen hervorgerufen werden, grundsätzlich berücksich tigt werden. Entsprechend der Verschiedenartigkeit der auftreten den Effekte scheint es unmöglich, dafür ein allgemeingültiges Modell aufzustellen. Mit der vorliegenden Arbeit wird versucht, den Einfluß der er wähnten Primärteilchen bei der Untersuchung von Oxiden, Carbo naten, Silikaten und Legierungen zu demonstrieren. Im zweiphasi gen Legierungssystem Ag-Cu zeigte sich ein zusätzlicher Effekt, der durch die bevorzugte Oberflächendiffusion von Silber erklärt wer den kann. Summary Influence of the Prohing Electron Beam and Sputtering in AES The prohing electron beam and sputtering used for cleaning and depth profiling influences the chemical composition of composite materials often in a dramatic way. Therefore, in a complete analysis several effects in duced by the incident electrons or ions have to be included in a quantitative description of the surface composition. No general model can be given as these effects depend on the type of material investigated. The present paper deals with oxides, carbonates, silicates, and alloys to show the influence of the prohing electrons or ions.